文献类型：期刊文章

作　　者：马德华[1] 庞金安[1] 霍振荣[1] 李淑菊[1]

机构地区：[1]天津市黄瓜研究所,天津300192

出　　处：《西北植物学报》

基　　金：国家"九五"科技攻关项目

年　　份：2000

卷　　号：20

期　　号：1

起止页码：141-144

语　　种：中文

收录情况：AJ、BIOSISPREVIEWS、CAB、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、WOS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：经高温处理后，黄瓜幼苗ＭＤＡ 含量显著增加；随着处理时间延长，ＭＤＡ 含量不断增加，这说明幼苗的膜系统受到明显伤害。高温处理后，ＰＯＤ 活性增强；其中对高温敏感的自交系Ｑ１０ 增加量较大，耐高温的自交系Ｔ９７ 增加较少。而高温处理前后Ｔ９７ 的ＰＯＤ 活性明显比Ｑ１０ 高。高温处理２ ｄ 后，ＣＡＴ活性降低。同时ＳＯＤ 活性逐渐降低，对高温敏感的自交系Ｑ１０ 降低较严重。试验表明，保持较高膜保护酶的活性可以降低高温的危害。

关 键 词：高温 黄瓜幼苗 膜脂过氧化作用 膜保护酶

分 类 号：S642.201]