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期刊文章详细信息

光和传统热固化对SiO_2减反膜影响的对比    

Effect Comparison between Light and Furnace Heat Treatment on Anti-reective SiO_2 Thin Film

  

文献类型:期刊文章

作  者:靳瑞敏[1,2,3] 蔡志端[2] 苍利民[2] 阎韬[2] 徐建军[2] 栗书增[2]

机构地区:[1]南阳理工学院太阳能电池研究所,河南南阳473004 [2]安彩高科股份有限公司博士后工作站,河南安阳455000 [3]郑州大学物理工程学院,河南郑州450052

出  处:《材料科学与工程学报》

基  金:国家高技术产业计划项目资助项目(发改办高技072490);河南省基础与前沿基础研究资助项目(072300410310)

年  份:2013

卷  号:31

期  号:3

起止页码:461-463

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过调节添加剂控制溶胶溶液性能,然后分别用光固化和传统电阻炉固化两种不同的热处理方案,制备出低折射率SiO2光学减反薄膜。分别采用椭偏仪、扫描电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究。研究结果表明:光固化比传统电阻炉固化减反膜折射率低。

关 键 词:溶胶-凝胶SiO2薄膜  光固化 传统电阻炉固化  表面结构  折射率  

分 类 号:O484]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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