文献类型：期刊文章

作　　者：陈辉[1] 汪建华[1] 翁俊[1] 孙祁[1]

机构地区：[1]湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北武汉430073

出　　处：《硬质合金》

基　　金：国家自然科学基金(11175137/A050610)光学级金刚石薄膜沉积过程晶面取向与缺陷控制机理研究

年　　份：2013

卷　　号：30

期　　号：2

起止页码：53-58

语　　种：中文

收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：以H2和CH4的混合气体为气源,使用实验室自制10 kW新型装置,采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在Si(100)基体上沉积金刚石薄膜,然后采用扫描电镜(SEM)、Raman光谱以及XRD光谱,以得到表面形貌、样品质量和晶面取向等信息,由此获得微波功率对金刚石薄膜取向的影响。结果表明,微波功率对金刚石膜的质量、表面形貌和晶面取向都有明显地影响,随着微波功率升高,金刚石薄膜的形貌变得规则,薄膜中Isp3/Isp2由1.52提高到6.58,其沉积晶面的I(100)/I(111)由0.38提高到3.93。当微波功率为4 900 W时,所得沉积样品晶面以(100)为主,形貌规则,纯度很高。

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 金刚石薄膜 微波功率

分 类 号：TB43]