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期刊文章详细信息

BiFeO_3/Ni_(81)Fe_(19)磁性双层膜中的交换偏置及其热稳定性研究  ( EI收录)  

Exchange bias in BiFeO_3 /Ni_(81) Fe_(19) magnetic films and its thermal stability

  

文献类型:期刊文章

作  者:周广宏[1,2] 潘旋[2] 朱雨富[1]

机构地区:[1]淮阴工学院江苏省介入医疗器械研究重点实验室,淮安223003 [2]西南科技大学材料科学与工程学院,绵阳621010

出  处:《物理学报》

基  金:国家自然科学基金(批准号:51175212);江苏省自然科学基金(批准号:BK2012668)资助的课题~~

年  份:2013

卷  号:62

期  号:9

起止页码:415-420

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号:20132216387804)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000319866900059)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:研究了磁场诱导生长的BiFeO3/Ni18Fe19磁性双层膜中的交换偏置及其热稳定性.结果表明:BiFeO3/Ni18Fe19双层膜中的交换偏置场Hex未表现出明显的磁练习效应.在负饱和磁场等待过程中,BiFeO3/Ni18Fe19双层膜磁滞回线的前支和后支曲线都随着在负饱和磁场中等待时间tsat的增加向正场方向偏移.交换偏置场Hex的大小随着等待时间tsat的增加而减小,矫顽力Hc基本不变.交换偏置场Hex的大小随测量温度Tm的升高变化不明显,表现出良好的热稳定性;但矫顽力Hc随Tm的升高而显著减小.良好的热稳定性应该来源于铁电性和反铁磁性间的共同耦合作用.

关 键 词:多铁性 磁性薄膜 交换偏置 热稳定性

分 类 号:O484.43]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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