期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华中理工大学政法系,湖北武汉430071
年 份:2000
卷 号:23
期 号:1
起止页码:79-82
语 种:中文
收录情况:CSSCI、CSSCI2000_2002、NSSD、RCCSE、RWSKHX、普通刊
摘 要:随着我国市场经济的发展,著作权与商标权以及外观设计的冲突越来越突出,如何解决这一冲突已成为知识产权界的重要话题。本文从冲突形成的原因以及现有的冲突解决途径着手进行分析,最后提出自己关于解决该冲突的建议。
关 键 词:著作权 商标权 工业产权 外观设计 知识产权
分 类 号:D923.41]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...