期刊文章详细信息
低介电常数(lowk)介质在ULSI中的应用前景 ( EI收录)
Prospect on the Applicatoin of Low k Dielectric in ULSI
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海200433 [2]开姆尼茨技术大学微技术中心
年 份：2000
卷 号：28
期 号：11
起止页码：84-87
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文讨论了ULSI的发展对低介电常数 (low k)介质的需求 ,介绍了几种有实用价值的low k介质的研究和发展现况 ,最后评述了low
关 键 词：极大规模集成电路 低介电常数材料 无机介质
分 类 号：TN47]
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