文献类型：期刊文章

作　　者：王刚[1,2] 刘宏宇[3] 赵超[3] 杨柏梁[1] 黄锡珉[1]

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 [2]吉林彩晶数码高科显示器有限公司,吉林长春130031 [3]吉林大学电子工程系

出　　处：《液晶与显示》

基　　金：中国科学院"九五"重大项目(KY951-A1-502);吉林省科委"九五"科技攻关项目(970103-01)资助

年　　份：2000

卷　　号：15

期　　号：2

起止页码：92-100

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：利用ＤＳＣ方法研究了纯铝薄膜中的小丘现象，同时制备了Ａｌ双层栅电极Ｔａ／Ａｌ、Ｃｒ／Ａｌ和Ｍｏ／Ａｌ薄膜，并在不同温度下进行了退火处理，研究了双层结构中上层金属（Ｔａ、Ｃｒ和Ｍｏ）厚度对Ａｌ薄膜中小丘的抑制作用。实验结果表明，上层Ｔａ膜厚度在８０～９０ｎｍ左右（在本实验条件下）时，可得到表面无小丘的Ｔａ／Ａｌ薄膜栅材料。实验制备的表面无小丘 Ｔａ／Ａｌ、 Ｃｒ／Ａｌ和 Ｍｏ／Ａｌ等栅电极材料的电阻率均在 ７～２０μΩ·ｃｍ之间，基本满足现今对角线为 ２５～５１ｃｍ（１０～２０ｉｎ）大屏幕、高清晰度ＴＦＴ　ＬＣＤ要求。

关 键 词：Al双层栅电极  小丘现象  应力释放 差热分析

分 类 号：TN873.93]