文献类型：期刊文章

作　　者：赵光兴[1] 陈洪璆[2] 杨国光[2]

机构地区：[1]华东冶金学院自动化系,马鞍山243002 [2]浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州310027

出　　处：《光学学报》

基　　金：安徽省自然科学基金;冶金部人教司资助项目

年　　份：2000

卷　　号：20

期　　号：6

起止页码：797-800

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：如何对干涉条纹数据进行有效地拟合 ,直接关系到条纹的定位精度以及待测量的检测精度。分析了目前使用的多项式最小二乘拟合法的局限性 ,提出了一种基于条纹特征的分步拟合新方法。该法避免了非线性拟合问题 ,其仿真拟合度优于 99.99% ,实验拟合度优于 97.2 4 % ,可有效地对干涉条纹进行实时拟合 ,并可满意地得到整个序列的拟合曲线。

关 键 词：干涉条纹 电荷耦合器件 拟合  

分 类 号：TH744.3]