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期刊文章详细信息

纳米硅薄膜的量子特征及其应用前景    

QUANTUM BEHAVIOR AND PROSPECTIVE APPLICATIONS OF HYDROGENATED NANO-CRYSTALLINE Si FILMS

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘宏[1] 何宇亮[2]

机构地区:[1]苏州铁道师范学院物理系,苏州215009 [2]南京大学物理系,南京210093

出  处:《物理》

基  金:国家自然科学基金

年  份:1999

卷  号:28

期  号:12

起止页码:724-729

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、普通刊

摘  要:文章通过对纳米硅薄膜结构组分的研究,从实验和理论上共同探讨了其低维量子特征,并由此提出其电输运机制及其可见发光机理.最后,综合纳米硅薄膜的各种新颖物性,展望了其在纳米电子学和MEMS( 微机电系统) 领域内的应用前景.

关 键 词:纳米硅薄膜 量子点 电子隧穿

分 类 号:O484.1]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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