文献类型：期刊文章

作　　者：靳瑞敏[1,2,3] 蔡志端[2] 苍利民[2] 阎韬[2] 徐建军[2] 栗书增[2]

机构地区：[1]南阳理工学院太阳能电池研究所,南阳473004 [2]安彩高科股份有限公司博士后工作站,安阳455000 [3]郑州大学物理工程学院,郑州450052

出　　处：《人工晶体学报》

年　　份：2013

卷　　号：42

期　　号：2

起止页码：278-281

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号：20131416161976)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文用PECVD法在石英玻璃上沉积非晶硅薄膜,然后用快速光退火和传统电阻炉退火方法晶化生长多晶硅薄膜,用拉曼光谱仪、XRD和场发射扫描电镜观察分析薄膜,发现在制备的多晶硅薄膜表面存在结晶团现象,并对这一现象的晶化机理进行了分析。

关 键 词：非晶硅薄膜 二次晶化  多晶硅薄膜 结晶团现象  晶化机理

分 类 号：TM914.42]