文献类型：期刊文章

作　　者：刘永利[1] 刘欢[1] 李蔚[1] 赵骞[2] 祁阳[1]

机构地区：[1]东北大学理学院材料物理与化学研究所,沈阳110819 [2]沈阳工业大学理学院物理实验中心,沈阳110031

出　　处：《物理化学学报》

基　　金：教育部中央高校基本科研业务费(N100305001,N110205001,N110105001);国家自然科学基金(51172040)资助项目~~

年　　份：2013

卷　　号：29

期　　号：3

起止页码：631-638

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EBSCO、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCI(收录号：WOS:000315584400026)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000315584400026)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：从原子尺度上去研究薄膜生长过程中温度对薄膜取向性、缺陷结构以及薄膜完整性的影响和作用规律,对于解释薄膜生长的物理本质、控制生长条件、提高薄膜制备的质量具有重要意义.本文应用基于反应力场的分子动力学方法研究了ZnO薄膜(000l)表面作为衬底的薄膜沉积生长过程,初步讨论了衬底温度(200、500和800K)变化对沉积较薄ZnO膜质量的影响,部分结果与实验观察相符.结果表明,衬底温度在500K左右时,沉积原子结构径向分布函数曲线特征峰尖锐、明显,有序度较高,注入和溅射对薄膜完整性影响较小,沉积形成的薄膜结构稳定而又致密.在预置衬底表面平坦的情况下薄膜呈现一种链岛状的生长模式,每原子层均具有两种生长取向,导致其生长前锋交汇处形成了一种新的有序缺陷.

关 键 词：分子动力学方法 薄膜生长 微结构 ZNO

分 类 号：O484.1]