期刊文章详细信息
Cr和W掺杂的单层MoS_2电子结构的第一性原理研究 ( EI收录)
First-principles study on the electronic structures of Cr- and W-doped single-layer MoS_2
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]江西师范大学物理与通信电子学院,南昌330022
基 金:国家自然科学基金(批准号:10904054);江西省自然科学基金(批准号:2009GQW008;2010GZW0028);江西省光电子与通信重点实验室(江西师范大学);江西师范大学青年英才培育资助计划资助~~
年 份:2013
卷 号:62
期 号:3
起止页码:304-309
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号:20132016329071)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000316818900046)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:采用密度泛函理论框架下的第一性原理平面波赝势方法,研究了Cr和W掺杂对单层二硫化钼(MoS2)晶体的电子结构性质的影响.计算结果表明:当掺杂浓度较高时,W对MoS2的能带结构几乎没有影响,而Cr的掺杂则影响很大,表现为能带由直接带隙变为间接带隙,且禁带宽度减小.通过进一步分析,得出应力的产生是导致Cr掺杂的MoS2电子结构变化的最直接的原因.
关 键 词:二硫化钼 掺杂 电子结构 第一性原理
分 类 号:O469]
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