期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国兵器工业第214研究所
年 份:2000
期 号:3
起止页码:4-6
语 种:中文
收录情况:内刊
摘 要:讨论了刻蚀设备的本底真空度、腔室衬底温度对铝刻蚀速率、各向异性、选择性和光刻胶完整性等主要参数的影响。还了为队去残余物和防止Al浸蚀而采取的一些措施和方法。
关 键 词:铝刻蚀 本底真空度 大规模集成电路 质量
分 类 号:TN470.57]
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