期刊文章详细信息
衬底温度对MOCVD-ZnO薄膜特性的影响 ( EI收录)
Influence of Substrate Temperature on the Properties of ZnO Thin Films Grown by MOCVD Technique
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华中科技大学电子科学与技术系,武汉430074 [2]河北汉盛光电科技有限公司,衡水053000
年 份:2012
卷 号:41
期 号:6
起止页码:1494-1497
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20130515953707)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长技术,制备本征ZnO薄膜,并研究薄膜的结构、形貌及光电等性能。结果表明:衬底温度对ZnO薄膜的微观结构、电学、光学及表面形貌等有显著影响。在衬底温度为180℃时获得电阻率为2.17×10-2Ω.cm。平均透过率为85%的低电阻、高透过率、结晶质量高、表面呈绒面结构的本征ZnO薄膜。对本征ZnO薄膜进一步掺杂和结构优化有望用于硅薄膜太阳能电池的前电极。
关 键 词:MOCVD 绒面ZnO薄膜 衬底温度 太阳电池
分 类 号:O484]
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