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期刊文章详细信息

纳米集成电路大生产中新工艺技术现状及发展趋势    

The status and trend of novel process and technology in nano-IC manufacturing

  

文献类型:期刊文章

作  者:吴汉明[1] 吴关平[1] 吴金刚[1] 黄河[1] 俞少峰[1] 李序武[1] 卜伟海[1]

机构地区:[1]中芯国际集成电路制造有限公司,上海201203

出  处:《中国科学:信息科学》

年  份:2012

卷  号:42

期  号:12

起止页码:1509-1528

语  种:中文

收录情况:CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要:近年来微纳电子科学和集成电路产业的发展,证明了有效30多年的摩尔定律未来正在受到挑战.在传统的集成电路技术发展似乎走到技术尽头的时候,依靠新材料和新结构的技术发展,摩尔定律才能继续显示其有效性.但是技术发展的步伐呈现减缓的趋势.在进入21世纪后,各种新器件材料的引进以及各种新器件结构的陆续推出,给世界集成电路产业带来了诸多机遇和挑战.本文总结分析了微纳电子产业技术主流发展趋势,包括:新材料新工艺应用、先进CMOS制造工艺集成技术、3D系统芯片封装技术、新型存储器技术、新型逻辑器件的产业化技术,并且介绍了国内先进集成电路产业技术的研发现状,包括近年来取得的一些生产技术研发成果.文中提出了一些纳米集成电路生产工艺技术发展中的主要挑战和应对建议,并针对国内集成电路科技和产业发展提出了一些看法.

关 键 词:微纳电子产业技术  新材料  新工艺  三维系统芯片封装  新型存储器件  先进CMOS制造技术  

分 类 号:TN47]

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