期刊文章详细信息
高致密ITO靶材制备工艺的研究现状和发展趋势
Preparation Process Research Status and Development Trend of High Density ITO Target
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室,云南昆明650093
基 金：新国家自然科学联合基金资助项目(u0837601);新国家基金资助项目(50874054);云南省创新团队(2009CI003);云南省自然科学基金资助项目(2008CD087)
年 份：2012
卷 号：41
期 号：24
起止页码：31-34
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2011、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：简述了ITO薄膜的各种性能和主要应用,综述了国内外ITO靶材的主要成形、烧结工艺及其研究现状,概括了ITO靶材的发展趋势。
关 键 词：ITO靶材 成形工艺 烧结工艺
分 类 号：TB332[材料类]
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