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应变对单层二硫化钼能带影响的第一性原理研究 ( EI收录)
The effect of strain on band structure of single-layer MoS_2:an ab initio study
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]江西师范大学物理与通信电子学院,南昌330022
基 金:国家自然科学基金(批准号:10904054);江西省自然科学基金(批准号:2009GQW008;2010GZW0028)资助的课题~~
年 份:2012
卷 号:61
期 号:22
起止页码:381-385
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000316732600056)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:采用密度泛函理论框架下的第一性原理平面波赝势方法,研究了双轴拉应变下单层二硫化钼晶体的电子结构性质.本文的计算结果表明对单层二硫化钼晶体施加一个很小的应变(0.5%)时,其能带结构由直接带隙转变为间接带隙.随着应变的增加,能带仍然保持间接带隙的特征,且禁带宽度呈现线性下降的趋势.通过对单层二硫化钼晶体态密度和投影电荷密度的进一步分析,揭示了单层二硫化钼晶体能带变化的原因.
关 键 词:二硫化钼 应变 能带 第一性原理
分 类 号:O469]
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