期刊文章详细信息
MOCVD法制备TiO_2薄膜的光电化学性质研究
PHOTOELECTROCHEMICAL PROPERTITES OF THE TIO_2 THIN FILM PREPARED BY MOCVD METHOD
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]山东教育学院化学系,济南250013
基 金：山东省自然科学基金资助项目 !(Q98B0 712 3)
年 份：2000
卷 号：15
期 号：2
起止页码：151-153
语 种：中文
收录情况：CAS、IC、ZGKJHX、普通刊
摘 要：采用金属有机化学气相沉积 (MOCVD)法制备了TiO2 薄膜 ,测定了TiO2 薄膜的晶体结构 ,以 p -Si为基底电极 ,研究了TiO2 薄膜的光电化学性质 .经TiO2 修饰的p-Si电极 ,开路光电位增加近 2 0倍 ,并表现出很强的稳定性 ,是较理想的光电极材料及光电极修饰材料 .
关 键 词：二氧化钛薄膜 光电化学性质 MOCVD法 气体
分 类 号：O659.31] TN304.21[化学类]
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