文献类型：期刊文章

作　　者：曹鸿[1,2] 张传军[1,2] 王善力[2] 褚君浩[1,2]

机构地区：[1]中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海200083 [2]上海太阳能电池研究与发展中心,上海201201

出　　处：《激光技术》

年　　份：2012

卷　　号：36

期　　号：6

起止页码：742-744

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况,采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变,根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式,用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力。结果表明,Zr膜中主要存在的是压应力,且分布不均匀;工作气压对Zr膜内应力影响不大,但膜厚对Zr膜内应力影响较大,且随膜厚的增加,Zr膜中压应力减小。

关 键 词：薄膜  自支撑 应力 磁控溅射 探针轮廓仪  

分 类 号：O484.2]