期刊文章详细信息
高能纳秒激光烧蚀单晶硅的微观结构
The ablation microstructures of mono crystalline silicon by high power nanosecond laser
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河南工程学院电气信息工程系,郑州451191
年 份：2012
卷 号：33
期 号：5
起止页码：36-37
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：高能纳秒激光烧蚀硅时,往往会伴随着相爆炸过程,它决定了烧蚀的形貌特征。基于相爆炸的物理过程,分析了相应的烧蚀形貌:相爆炸的发生会使得硅材料发生大范围的去除,高温熔化材料的混合物向外喷溅,冷却形成放射状的冷却条,期间分布着冷却的球状微粒;超热液体的去除部位形成一个类似花瓣状坑,在坑中由于入射光与散射光的干涉形成条纹,其周期与激光光波相似。
关 键 词：纳秒激光 激光烧蚀 单晶硅 相爆炸
分 类 号：O539]
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