期刊文章详细信息
超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术
CVD Thin-Film Process for ULSI
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华越微电子有限公司,绍兴市312016
年 份：2000
卷 号：26
期 号：7
起止页码：40-42
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：介绍了在超大规模集成电路制造工艺中 ,用化学气相 (CVD)方法淀积各种薄膜的反应机理和特性 ,及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。
关 键 词：VLSI 薄膜 CVD 淀积 集成电路
分 类 号：TN470.5]
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