文献类型：期刊文章

作　　者：施立群[1] 周筑颖[1] 赵国庆[1]

机构地区：[1]复旦大学现代物理研究所,上海200433

出　　处：《金属学报》

年　　份：2000

卷　　号：36

期　　号：5

起止页码：530-534

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2000065227281)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用前向反冲方法和高能非Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ背散射方法研究了磁控溅射制备的Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜的氢化性能和碳、氧污染的影响。掺Ｍｏ的Ｔｉ合金薄膜不仅能大大减低碳的污染，而且较纯钛有较高的吸氢性能．合金氢化后由δ相氢化物和β相固溶体组成．随着Ｍｏ成分增加，合金中的β－（Ｔｉ，Ｍｏ）含量上升．当Ｍｏ含量（原子分数，％）约２０时可形成单一的β相固溶体，此时氢含量（原子分数，％）仍可在４５以上．Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜同时也具有良好的附着力和抗粉化性能。

关 键 词：TI-MO合金 薄膜  氢化 氢脆 储氢特性

分 类 号：O484.4] TG139.7[物理学类]