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期刊文章详细信息

Sn掺杂BZT薄膜性能研究  ( EI收录)  

Properties of Sn-doped barium zirconate titanate films

  

文献类型:期刊文章

作  者:邓小玲[1,2] 蔡苇[1] 符春林[1] 陈刚[1] 郭冬娇[1]

机构地区:[1]重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆401331 [2]重庆大学材料科学与工程学院,重庆400044

出  处:《功能材料》

基  金:国家自然科学基金资助项目(51102288);重庆市自然科学基金资助项目(2010BB4286;2011BA4027);重庆市教委科学技术研究资助项目(KJ121408);重庆科技学院校内基金资助项目(CK2010Z07);电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放基金资助项目(KFJJ201104)

年  份:2012

卷  号:43

期  号:B08

起止页码:97-100

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20124715692016)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Sn掺杂Ba(Zr0.2Ti0.8)O3(BZT)薄膜。结果表明,掺锡的BZT薄膜为钙钛矿结构,当Sn掺量超过4%时,出现了第二相BaO;SEM观察发现掺锡BZT薄膜表面光滑平整,孔洞和裂纹较少;当Sn掺量达到8%时,BZT薄膜的介电常数达到最大值,而介电损耗最小;BZT薄膜的剩余极化强度为2.29μC/cm2,矫顽场强为10.36kV/cm。

关 键 词:BZT薄膜  Sn掺杂  性能  

分 类 号:TB32[材料类] O484]

参考文献:

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同被引文献:

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