文献类型：期刊文章

作　　者：周辉[1] 杨海峰[2]

机构地区：[1]中国矿业大学孙越崎学院,江苏徐州221008 [2]中国矿业大学机电工程学院,江苏徐州221008

出　　处：《微纳电子技术》

基　　金：中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(JX111742);国家自然科学基金资助项目(51105360);江苏省自然科学基金资助项目(BK2011218);江苏省光子制造科学与技术重点实验室开放基金资助项目(GZ200905)

年　　份：2012

卷　　号：49

期　　号：9

起止页码：613-618

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻、极紫外光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、纳米压印光刻等技术的概念、发展过程和特点,并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。最后结合国内外生产商、工程师和研究学者的研究成果,对光刻技术的未来发展做出展望。

关 键 词：光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术  下一代光刻技术 分辨率增强技术

分 类 号：TN305.6] TN305.7