文献类型：期刊文章

作　　者：朱亚彬[1] 寇克瑜[1] 何帆[1]

机构地区：[1]北京交通大学理学院物理实验中心,北京100044

出　　处：《实验技术与管理》

基　　金：中央高校基本科研业务费专项基金(2009JBM098);北京市自然科学基金(2113050)

年　　份：2012

卷　　号：29

期　　号：7

起止页码：36-38

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、IC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用磁控溅射技术在玻璃基片上分别沉积ZnOx薄膜、TiO2-y薄膜和TiO2-y/ZnOx双层透明薄膜,改变薄膜沉积过程中的氩气(Ar)和氧气(O2)的比例,获得具有不同氧含量的ZnOx薄膜和TiO2-y薄膜。采用椭偏仪测定所有样品的折射率,仔细研究薄膜中氧含量对折射率的影响。分别选择具有较大的折射率TiO2-y薄膜和具有较小的折射率ZnOx薄膜的生长条件,制备TiO2-y/ZnOx双层薄膜,获得光密媒质/光疏媒质双层结构,并观察到He-Ne激光从ZnOx薄膜入射到TiO2-y/ZnOx界面上发生的全反射现象。研究成果适用于大学生物理实验中的研究型实验或大学创新实验。

关 键 词：透明薄膜  磁控溅射技术 全反射

分 类 号：TB383[材料类]