文献类型：期刊文章

作　　者：张金林[1,2] 贺春林[1,2] 王建明[1,2] 才庆魁[1,2]

机构地区：[1]沈阳大学表面工程研究所,辽宁沈阳110044 [2]沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室,辽宁沈阳110044

出　　处：《沈阳大学学报（自然科学版）》

基　　金：教育部留学回国人员科研启动基金资助项目;沈阳市科技基金资助项目(F10-205-1-60)

年　　份：2012

卷　　号：24

期　　号：4

起止页码：23-27

语　　种：中文

收录情况：CAS、JST、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：采用直流反应磁控溅射方法在304不锈钢表面沉积TiN薄膜.利用场发射扫描电镜、X射线衍射仪和纳米压痕仪研究基体温度对TiN薄膜结构与性能的影响.结果表明:TiN薄膜为柱状结构,表面平整、致密.薄膜为面心立方结构(fcc)TiN并存在择优取向,室温和150℃时薄膜为(111)晶面择优取向,300和450℃时薄膜为(200)晶面择优取向;室温时薄膜厚度仅为0.63μm,加温到150℃后膜厚增加到1μm左右,但继续加温对膜厚影响不明显;平均晶粒尺寸随着基体温度的升高略有上升;薄膜的硬度、弹性模量和韧性(H3/E*2)随基体温度的升高而增加,最值分别达到25.4,289.4和0.1744GPa.

关 键 词：反应磁控溅射 TIN 基体温度  微结构 机械性能

分 类 号：TB79] TB34