期刊文章详细信息
化学机械抛光液的发展现状与研究方向 ( EI收录)
Research Status and Prospect of Chemical Mechanical Polishing Slurry
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河南工业大学材料科学与工程学院,郑州450007
基 金：河南省教育厅自然科学基金(12A430005)
年 份：2012
卷 号：41
期 号：4
起止页码：95-98
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要：简述了化学机械抛光液的主要成分及其作用;综述了近年来国内外化学机械抛光液的发展现状,主要介绍了二氧化硅胶体抛光液、二氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、纳米金刚石抛光液。最后指出,化学机械抛光液未来应向环保化、精细化以及专门化的方向发展。
关 键 词：化学机械抛光液 二氧化硅 二氧化铈 氧化铝 纳米金刚石
分 类 号：TG175]
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