文献类型：期刊文章

作　　者：徐均琪[1] 苏俊宏[1] 惠迎雪[1] 程耀进[2]

机构地区：[1]西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032 [2]北方夜视技术集团股份有限公司微光夜视技术国防科技重点实验室,西安710119

出　　处：《光电子．激光》

基　　金：陕西省科技基金(2008KW-12;2009KW-16);西安科技创新支撑计划(CXY1015-2)资助项目

年　　份：2012

卷　　号：23

期　　号：7

起止页码：1268-1273

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20123515381676)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、核心刊

摘　　要：设计了两种具有不同场强分布的1 064nm减反射膜结构,即G/H3L/A和G/M2HL/A。采用离子束辅助沉积技术,在K9基底上制备了薄膜,并对薄膜在强激光下的损伤斑形貌及损伤阈值(LIDT)进行了测量。研究结果表明:薄膜的场强分布不同,其抗强激光的能力也不相同。当两种膜系的电场强度(归一化电场强度平方)在薄膜-空气界面处分别为1.039和0.906时,对不同的激光能量(180,150和120mJ),样品G/H3L/A的表面破损斑尺寸均大于样品G/M2HL/A;两种薄膜的激光损伤阈值分别为12.3J/cm2和14.8J/cm2(激光波长为1 064nm,12ns)。这说明,较小的薄膜-空气界面电场强度,有利于激光损伤能力的提高。因此,对于减反射薄膜,在膜系设计时,采用合理的场强分布,降低薄膜-空气界面的电场强度,可以有效改善薄膜的激光损伤特性。

关 键 词：减反射  薄膜  电场 激光损伤阈值

分 类 号：O484.4]