期刊文章详细信息
电子束曝光技术发展动态
Electron Beam Lithography:an Overview
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室,北京100029
年 份：2000
卷 号：30
期 号：2
起止页码：117-120
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：电子束曝光技术是近三十年来发展起来的一门技术 ,主要应用于 0 .1～ 0 .5μm的超微细加工 ,甚至可以实现纳米线条的曝光。文中重点介绍电子束曝光系统、电子束抗蚀剂以及电子束曝光技术的应用。
关 键 词：电子束曝光 微细加工 抗蚀剂
分 类 号：TN405.7]
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