文献类型：期刊文章

作　　者：罗畅[1] 周白杨[1] 黄涛[1] 吴武地[2]

机构地区：[1]福州大学材料科学与工程学院,福州350108 [2]福州大学至诚学院材料工程系,福州350002

出　　处：《功能材料与器件学报》

基　　金：福建省自然科学基金项目(2010J01278)

年　　份：2012

卷　　号：18

期　　号：2

起止页码：165-171

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用WO3陶瓷靶,运用射频反应磁控溅射工艺,通过正交试验方法优化实验参数,制备出性能优异的WO3电致变色薄膜,通过对薄膜进行真空热处理,提高了薄膜变色存储能力。结果表明,氧分量为60%、压强为2.5Pa、功率为145W时制备的薄膜,对光调制幅度(ΔT)达89.3%。适度温度真空热处理可改善薄膜性能,着色率略有提高,变色存储时间增加(达32h),离子存储能力增大(达3.96mC/cm2),循环稳定性能良好,同时热处理使薄膜晶化,密度增加,变色响应时间增加。

关 键 词：WO3薄膜 射频反应磁控溅射 真空热处理 电致变色

分 类 号：O484] TB381[物理学类]