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期刊文章详细信息

FDI技术溢出与区域创新能力差异的双门槛效应    

Dual-threshold Effect about Technology Spillovers of FDI and the Difference of Regional Innovation Capability

  

文献类型:期刊文章

作  者:鲁钊阳[1] 廖杉杉[2]

机构地区:[1]重庆大学经济与工商管理学院 [2]重庆社会科学院<改革>杂志社

出  处:《数量经济技术经济研究》

基  金:国家社科基金重点项目(08AJY030);中央高校基本科研费重点资助项目(CDJXS10022213)的资助

年  份:2012

卷  号:29

期  号:5

起止页码:75-88

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CSSCI、CSSCI2012_2013、NSSD、RCCSE、RWSKHX、SKJJZZ、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本文采用以门槛回归为代表的非线性计量经济学理论,在构建动态面板门槛回归模型的基础上,以知识产权保护水平为门槛变量,实证FDI技术溢出对区域创新能力差异的影响。研究发现,在控制其他变量的基础上,FDI技术溢出对区域创新能力的影响显著存在基于知识产权保护水平的"双门槛效应",区域间创新能力的差异非常明显;区域只有跨越相应的知识产权保护水平门槛,FDI技术溢出才能有效地促进区域创新能力的提升。

关 键 词:外商直接投资 技术溢出  区域创新能力 门槛回归

分 类 号:F204]

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