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期刊文章详细信息

晶圆划切工艺与优化    

Technics and Optimization of Wafer Dicing

  

文献类型:期刊文章

作  者:张伟[1] 贾月明[1]

机构地区:[1]北京中电科电子装备有限公司,北京100176

出  处:《电子工业专用设备》

年  份:2012

卷  号:41

期  号:4

起止页码:7-12

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:在研究晶圆划片机划切工艺的基础上,分析了划切的质量缺陷和划切质量评估矩阵,阐述了影响划切质量的诸多因素。介绍了划片刀、承载薄膜、划切模式、划切冷却水的添加剂和划切参数的选择对划切质量的影响,通过对以上5个方面的优化来达到优化工艺的目的,同时还提出了将砂轮划片和微水导激光划片相结合的新划切工艺。

关 键 词:晶圆 划切设备  工艺  优化  

分 类 号:TN305.1]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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