文献类型：期刊文章

作　　者：薛文斌[1] 邓志威[1] 陈如意[1] 张通和[1]

机构地区：[1]北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心,北京100875

出　　处：《金属热处理》

基　　金：国家"8 63"计划 !( 863 71 5 0 1 1 0 2 0 );国家自然科学基金!( 5 980 1 0 0 3);北京市科技院萌芽计划资助

年　　份：2000

卷　　号：25

期　　号：2

起止页码：5-6

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2000095312906)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用微弧氧化方法在硅酸盐溶液中在Ti6Al4V合金表面生长出一层厚度达50μm的陶瓷氧化膜,并用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)初步研究了氧化膜的组织结构。该氧化膜由大量金红石型TiO2和SiO2非晶相及少量锐钛矿型TiO2相组成,且膜内层金红石含量比膜外层高。这些相都是由微弧区熔融物快速冷却形成的。硅元素已扩散到膜内层,Ti、Si元素在膜内部分布是不均匀的。

关 键 词：钛合金 微弧氧化 组织结构  陶瓷膜

分 类 号：TG174.453] TG146.23]