文献类型：期刊文章

作　　者：何霞[1,2] 苏晓华[2]

机构地区：[1]广州番禺职业技术学院,广东广州511483 [2]暨南大学,广东广州510632

出　　处：《科技管理研究》

基　　金：国家自然科学基金青年项目"新创企业模式选择与竞争力研究:基于母体企业资源继承与创新的分析"(70602018);广东省软科学项目"广东先进制造业的战略网络研究"(2010B070300039)

年　　份：2012

卷　　号：32

期　　号：6

起止页码：100-108

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CSSCI、CSSCI_E2012_2013、JST、RCCSE、RWSKHX、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：以沪深两市105家高新技术上市企业为研究样本,选取衡量高管团队背景特征的六项指标、高管激励的三项指标及企业R&D投入的两项指标,构建高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入的调节效应模型。研究结果表明:(1)高管团队教育程度和专业背景与企业R&D的人力资源投入水平显著正相关;职能背景与企业R&D经费投入水平显著正相关;而高管团队年龄与企业R&D的经费投入水平显著负相关。(2)高管薪酬激励和股权激励正向促进了企业的R&D投入水平。(3)高管股权激励在高管团队年龄和企业R&D经费投入的之间关系上起到了重要的调节作用;高管晋升激励在高管团队性别和企业R&D人力资源投入之间的关系上发挥着重要的调节作用。

关 键 词：高管团队 高层梯队理论  TMT背景特征  高管激励 企业R&D投入

分 类 号：F276.44[工商管理类] F224]