期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中山大学物理系,广州510275 [2]海军广州舰艇学院,广州510431
年 份:2000
卷 号:15
期 号:1
起止页码:179-182
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI(收录号:2000095312568)、JST、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000086464400032)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构和性质最关键的工艺参数.采用磁过滤真空溅射离子技术,研究不同衬底偏压Vb(即不同碳离子能量)下制备的非晶金刚石薄膜的拉曼光谱和表面形貌.结果表明:-50V≤Vb≤-10V时,样品表面均匀、光滑,拉曼谱是对称且很宽的散射带;Vb>-10V或Vb<-50V时,已有晶团出现,表面粗糙度明显增加,拉曼谱明显地分裂为1580cm-1的G带和1350cm-1的D带.
关 键 词:非晶金刚石薄膜 拉曼光谱 表面形貌 半导体薄膜
分 类 号:TN304.18] O484.41]
参考文献:
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