期刊文章详细信息
铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究
Hysteresis in Aluminum Oxides Films Growth with Pulsed Reactive Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]东南大学薄膜研究所,南京210096
年 份：2000
卷 号：20
期 号：2
起止页码：88-91
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊
摘 要：采用脉冲磁控反应溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验 ,对该工艺过程中溅射电压和沉积速率与氧流量的“迟滞回线”现象进行了研究。通过给出靶面刻蚀区氧化层厚度与氧分压之间的关系 ,解释了薄膜沉积速率变化的原因。
关 键 词：迟滞回线 反应溅射 脉冲溅射 氧化铝薄膜
分 类 号：O614.31] TB43[化学类]
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