期刊文章详细信息
电容过程成像技术的进展 ( EI收录)
The Latest Development of Capacitance Process Tomography System
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]天津大学自动化系,天津300072 [2]英国曼彻斯特理工大学电气与电子工程系
年 份：2000
卷 号：21
期 号：1
起止页码：4-7
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文详细介绍了电容过程成像技术的新进展 ,其中包括阵列式敏感电极结构设计 ,具有抗杂散电容影响的高灵敏 AC桥电容检测线路以及 L andweber迭代算法再构图像 ,从而使成像系统性能指标明显得到改善。
关 键 词：敏感电极 图像再构算法 电容成像 工业管道
分 类 号：TP391.41] U178[计算机类]
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