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期刊文章详细信息

MOPCVD制备Ti(CN)硬膜研究    

Growth of Ti(CN) Films with Metal Organic Plasma Chemical Vapor Deposition

  

文献类型:期刊文章

作  者:石玉龙[1] 彭红瑞[1] 李世直[1]

机构地区:[1]青岛化工学院等离子体表面技术研究所,青岛266042

出  处:《真空科学与技术》

基  金:山东省自然科学基金资助课题

年  份:2000

卷  号:20

期  号:1

起止页码:60-62

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊

摘  要:采用金属有机物四异丙基钛 (Ti[OC3 H7]4 )为钛源 ,在辅助加热PCVD设备上进行沉积Ti(CN)涂层研究。并对涂层进行了显微硬度测量、扫描电镜观察和X射线衍射分析。结果表明 ,此法制备的Ti(CN)涂层其显微硬度可达 15 6 80N/mm2 。Ti(CN)涂层仍为柱状晶结构 ,Ti(CN)晶体的d(2 0 0 )值随着炉温和氢、氮比的变化而变化。切削实验证明 ,6mm高速钢钻头经MOPCVD Ti(CN)涂镀后提高使用寿命 7 3倍 ;经MOPCVD Ti(CN)涂镀的6 5mm×2 2mm× 5mm直齿三面刃铣刀使用寿命是非涂镀的 8倍。

关 键 词:PCVD技术  硬膜技术  四异丙基钛  碳氮化钛

分 类 号:TB43] O646.9]

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同被引文献:

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