文献类型：期刊文章

作　　者：陈辉[1,2] 谭永红[3] 周杏鹏[1] 张亚红[4] 董瑞丽[3]

机构地区：[1]东南大学自动化学院,江苏南京210096 [2]桂林电子科技大学电子工程与自动化学院,广西桂林541004 [3]上海师范大学信息与机电工程学院,上海200234 [4]桂林航天工业高等专科学校信息工程系,广西桂林541004

出　　处：《光学精密工程》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.60971004);上海市科委重点基金资助项目;(No.09220503000;10JC1412200);上海市自然科学基金资助项目(No.09ZR1423400);上海市教育委员会科研创新基金资助项目(No.09ZZ141;11YZ92);上海师范大学重点学科基金资助项目(No.DZL811;DRL904)

年　　份：2012

卷　　号：20

期　　号：1

起止页码：88-95

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20120614748540)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了提高精密定位系统中压电陶瓷的控制精度,研究了压电执行器的动态模型及逆模型。根据Weierstrass第一逼近定理,提出了以多项式函数逼近Duhem模型中的分段连续函数f(·)和g(·),并应用递推最小二乘算法辨识Du-hem模型的参数α及f(·)和g(·)的多项式系数,建立了压电陶瓷执行器的非线性参数化动态模型。利用辨识结果建立压电陶瓷执行器的动态逆模型,避免对压电陶瓷执行器进行复杂的模型求逆;介绍了通过逆补偿和PID复合控制对压电陶瓷系统进行的控制。实验结果表明:仅通过逆补偿,可在0～200μm使得控制绝对误差小于0.8μm;在前馈逆补偿和PID环控制下,绝对误差可小于40nm,结果验证了算法的有效性。该算法结构简单,适应性强,便于工程实现。

关 键 词：压电陶瓷执行器 Duhem模型  Weierstrass多项式逼近  递推最小二乘法 动态迟滞模型  动态逆迟滞模型  逆补偿  

分 类 号：TP273.1] TN384]