文献类型：期刊文章

作　　者：薛文斌[1] 邓志威[1] 来永春[1] 陈如意[1] 张通和[1]

机构地区：[1]北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心,北京100875

出　　处：《金属热处理》

基　　金：国家"8 63"高科技! ( 863 71 5 0 1 1 0 2 0 );国家自然科学基金!( 5 980 1 0 0 3)资助项目

年　　份：2000

卷　　号：25

期　　号：1

起止页码：1-3

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：微弧氧化是一项在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。本文介绍了Al、Mg、Ti金属表面微弧氧化技术的发展历史及氧化物陶瓷膜生长的原理,并比较微弧氧化和阳极氧化技术的工艺及性能特点,显示微弧氧化工艺比阳极氧化简单,氧化膜的综合性能比阳极氧化膜高得多,是一项有广阔应用前景的新技术。

关 键 词：微弧氧化 火花放电 有色金属 陶瓷膜

分 类 号：TG174.451]