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期刊文章详细信息

背向曝光表面等离子体激元干涉光刻系统中银层超透镜的优化设计  ( EI收录)  

Optimized Design of Silver Superlens for the Surface Plasmon Polaritons Interference Lithography Based on Backside-Exposure Technique

  

文献类型:期刊文章

作  者:肖啸[1] 张志友[2] 何明阳[2] 肖志刚[1] 许德富[1]

机构地区:[1]乐山师范学院物理与电子工程学院,四川乐山614004 [2]四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所,四川成都610064

出  处:《光学学报》

基  金:乐山师范学院资助项目(Z1007);四川省教育厅科研项目(11ZB133);乐山市科技局重点项目(10GZD022)资助课题

年  份:2011

卷  号:31

期  号:12

起止页码:230-234

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20120214672487)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用表面等离子体激元(SPP)的局域能量增强效应可提高现有光学光刻的分辨率。背向曝光SPP干涉光刻技术可以大面积制备低成本的纳米周期性结构。理论分析了SPP在背向曝光系统中的共振透射特性,提出了背向曝光SPP干涉光刻系统核心元件———银层超透镜的优化设计方法,并利用时域有限差分法和理论解析式模拟计算了背向曝光SPP干涉光场分布,通过优化设计银层超透镜厚度和共振角,实验获得了较好的周期性光刻线条。

关 键 词:表面光学 表面等离波子激元干涉光刻  背向曝光  银层超透镜  

分 类 号:O436.1]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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