期刊文章详细信息
射频功率对非晶硅薄膜光电性能的影响
Effect of RF power on the photoelectric properties of amorphous silicon thin films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河北工业大学信息工程学院,天津300401 [2]河北汉盛光电科技有限公司,河北衡水053000
年 份：2011
卷 号：48
期 号：6
起止页码：29-31
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：采用等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术,在Corning Eg 2000玻璃上制备非晶硅薄膜,研究了射频功率对薄膜光电性能的影响。结果表明:通过调节功率可获得具有高折射率,高吸收系数,低暗电导率的非晶硅薄膜。
关 键 词：非晶硅薄膜 折射率 吸收系数 光学带隙 暗电导率
分 类 号：O484.4]
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