期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科技大学精密机械与精密仪器系,中国科技大学国家同步辐射实验室
基 金:国家自然科学基金
年 份:1995
卷 号:16
期 号:S1
起止页码:202-205
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:本文介绍了利用离子束抛光方法获得石英和单晶硅两种材料的超光滑表面,利用原子力显微镜(AFM)进行该类表面微观形貌的测试工作。这种加工和测试可以在纳米尺度上进行。在合适的工艺参数条件下,我们已能获得微观形貌小于1nm(rms)的超光滑表面。
关 键 词:超光滑表面 离子束抛光 表面微观形貌 离子束刻蚀 原子力显微镜 表面粗糙度 工艺参数 单晶硅 中国科技大学 束流密度
分 类 号:TH706[仪器类]
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