期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国计量科学研究院,100013 [2]清华大学自动化系 [3]北京医疗器械研究所
年 份:1996
卷 号:5
期 号:2
起止页码:27-31
语 种:中文
收录情况:CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、普通刊
摘 要:目的 :目前 ,国内X、γ刀的输出剂量及剂量分布尚无适宜的测量设备及相应的技术规范。由于X、γ刀剂量场的特点 ,不能用常规的电离室测量。本文的目的是为X、γ刀的剂量测量提供合理的设备和方法。材料与方法 :研制了灵敏区为 1mm的半导体探测器和体积为 0 .0 3cc的石墨电离室。用该探测器测量了γ刀在各种模体中的输出剂量及剂量分布。结果 :用研制的SCD -61半导体剂量仪和 0 .0 3cc石墨电离室测量了不同模体、不同准直器的输出剂量及剂量分布 ,根据对球形模的测量值 ,计算出各种射野时头形模的量分布 ,用热释光剂量仪做了验证 ,焦点值均在 5 %范围内一致。结论 :X、γ刀的输出剂量及剂量分布应在现场进行实际测量 ,所用探头直径应小于射野直径的一半。灵敏区~ 1mm的半导体探测器适合作X。
关 键 词:X(γ)刀剂量场 剂量分布 半导体探测器
分 类 号:R197.39]
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