期刊文章详细信息
抛光参量对抛光光学元件亚表层的影响
Influences of Polishing Parameters on Subsurface Damage of Polishing Components
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖南科技大学物理学院,湘潭411201 [2]滨州学院物理系,滨州256600
年 份：2008
卷 号：44
期 号：1
起止页码：25-27
语 种：中文
收录情况：JST、ZGKJHX、普通刊
摘 要：研究了抛光粉的种类、抛光速度的大小以及抛光玻璃的性质等抛光参量对光学元件亚表层特征的影响,并结合抛光机理进行了分析。
关 键 词：抛光 亚表层缺陷 抛光粉 熔石英 抛光速度
分 类 号：TG580.692]
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