期刊文章详细信息
未确认Mura分析及改善对策
Analysis and Improvement of Unknown Mura
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]清华大学电子工程系,北京100084 [2]北京京东方光电科技有限公司,北京100176
年 份：2011
卷 号：26
期 号：5
起止页码：612-615
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：未确认Mura是一种能够影响TFT-LCD画面品质的不良。文章对未确认Mura不良进行了详细的分析,认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Mura不良发生的原因,介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法,并通过试验论证了此方法的量产可行性。
关 键 词：未确认Mura 扇形区域 有源层残留 曝光工艺条件
分 类 号：TN141.9]
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