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利用脉冲直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的研究
Deposition of ZnO:Al films by pulsed DC magnetron sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河北工业大学信息工程学院,天津300401 [2]河北汉盛光电科技有限公司,河北衡水053000
基 金：国家科技部科技创新基金(10C26211303683)
年 份：2011
卷 号：48
期 号：5
起止页码：82-85
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：利用中频脉冲直流磁控溅射法制备了平面ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,研究了沉积压力、衬底温度和溅射功率对AZO薄膜光电性能、薄膜稳定性的影响。结果表明:在较低沉积压力、衬底温度及溅射功率下,可获得具有低电阻率、高透过率、高稳定性的AZO薄膜。
关 键 词：ZNO:AL 磁控溅射 脉冲直流 AZO
分 类 号：O484.4]
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