文献类型：期刊文章

作　　者：张玥[1] 万培元[1] 林平分[1]

机构地区：[1]北京工业大学嵌入式系统实验室,北京100124

出　　处：《半导体技术》

基　　金：北京工业大学博士科研启动基金项目(X0000190110)

年　　份：2011

卷　　号：36

期　　号：9

起止页码：705-709

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：超大规模集成电路特征尺寸逐步缩小的发展过程中,芯片面积是制约芯片成本的最重要因素之一,也是直接影响半导体产品市场竞争力的最重要因素之一。本文介绍了将所有可测性设计(DFT)的输入输出端口(IO)与各种类型的正常功能工作模式的IO复用的方法,从而达到减少IO并最终减小芯片面积的目的。介绍了输入信号和输出信号分别在单向端口IO和双向端口IO中复用的方法。然后,以一款经过0.18μm逻辑工艺流片验证的flash存储器控制芯片为例,对比了采用IO复用方法前后芯片的利用率和面积,证明了方案的可行性和有效性。

关 键 词：面积  输入输出端口 复用 可测性设计 测试模式选择  

分 类 号：TN407]