期刊文章详细信息
模拟退火算法在薄膜光学常数反演中的应用
Application of the Simulated Annealing Algorithm to Film Optical Constant Inversion
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]西安工业大学光电工程学院,西安710032 [2]西安应用光学研究所,西安710065 [3]西安思源学院能源与电气工程学院,西安710038
年 份:2011
卷 号:31
期 号:4
起止页码:312-317
语 种:中文
收录情况:CAS、IC、UPD、ZGKJHX、普通刊
摘 要:为了消除薄膜实际光学常数与理论光学常数差异对监控的影响,基于实测透射率光谱曲线,采用模拟退火(SA)算法对已镀膜层实际光学常数n、k、d进行数值反演;在应用模拟退火算法时,对于某一退火温度t,新解的查找范围根据新解的接受率来自适应控制,快速地找到更优的新解;当新解确定后,退温采用指数降温方式,其退温速率α的取值根据接受概率P的不同而变化,当连续退温后,满足终止条件,算法结束;算法经此改进后,应用在石英玻璃基底上镀制ZnS薄膜实例中,经验证,在较短的时间内找到n、k、d值,提高了优化速度与算法效率.
关 键 词:透射率光谱 薄膜光学常数 模拟退火算法 退温速率 自适应查找
分 类 号:O484.41]
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