期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]唐山师范学院化学系,河北唐山063000
年 份:2011
卷 号:52
期 号:8
起止页码:456-458
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、RSC、核心刊
摘 要:用硅烷偶联剂KH-560对纳米SiO2样品表面进行接枝改性研究。考察了纳米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性温度以及改性时间对改性效果的影响。采用红外光谱、热重分析手段对表面改性前后的纳米SiO2进行表征。纳米SiO2最佳工艺改性条件:纳米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性温度90°C,改性时间6 h。
关 键 词:纳米二氧化硅 烷偶联剂 接枝改性
分 类 号:O647.11]
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